Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.

Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.

Heute wagen. Morgen begeistern.

Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.

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Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips - Arbeiten, wo das Morgen entsteht.

Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. Als Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems sind sie aus unserem Alltag nicht mehr wegzudenken – egal ob im Smartphone, im Smart Home oder in Smart Factories. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.

Ihre Rolle

Sie möchten den Halbleitermarkt in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? Begeistern sich für für Deeptech und Talent im Umgang mit Menschen? Im Bereich Metrology Processes der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing gestalten wir gemeinsam die Zukunft der Halbleitertechnologie mit einzigartigen Messprozessen für die Fertigung hochgenauer Lithographie-Optiken. In der Gruppe Design & Algorithms EUV Systems der Abteilung Surface Figure Metrology EUV entwickeln, qualifizieren und implementieren wir Algorithmen für serientaugliche Formmessprozesse auf der Picometer Skala. Wir stehen für hohe Fachexpertise, starke Selbstverantwortung, ein unglaublich motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens

• Sie entwickeln, qualifizieren und verbessern serientaugliche Messprozesse mit höchsten Genauigkeitsanforderungen, um die Qualität von Lithographieoptiken sicherzustellen

• Sie konzipieren und optimieren Messstrategien und Kalibrierverfahren für komplexe optische Messprozesse, um Nano- und Picometer Performance sicherzustellen

• Sie entwickeln und implementieren Algorithmen zur Verbesserung der Auswertung, Kalibrierung und Korrektur bei interferometrischen Messverfahren und integrieren diese in den Fertigungsprozess

• Sie analysieren die Leistung der Messprozesse sowohl experimentell als auch theoretisch, entwickeln Sie Verbesserungsmaßnahmen und koordinieren deren Umsetzung

• Sie übernehmen die Leitung von Arbeitspaketen in diesem Bereich und sorgen Sie für eine erfolgreiche Umsetzung

Ihr Profil

• Sie können einen sehr guten ingenieurwissenschaftlichen oder naturwissenschaftlichen Hochschulabschluss vorweisen, bevorzugt mit Promotion
• Sie verfügen über fachliche Kenntnisse in technischer Optik sowie bevorzugt auch auf dem Gebiet industrieller Messtechnik
• Sie besitzen Erfahrung in der Modellierung und datenbasierten Analyse komplexer Systeme
• Sie haben Programmierkenntnisse (vorzugsweise in Python) und idealerweise Erfahrung in professioneller Softwareentwicklung
• Sie besitzen eine ausgeprägte Neugier, Freude an komplexen technischen Fragestellungen und die Bereitschaft, sich intensiv in neue Themengebiete einzuarbeiten
• Hohe Eigenmotivation, Selbstorganisation, ausgeprägte Hands-on-Mentalität und Teamfähigkeit zählen zu Ihren Stärken
• Sie kommunizieren sicher in Deutsch und Englisch, mindestens auf B2-Niveau